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首页 > 科技入侵现代 > 第120章 51区的脑补闭环了(1w)

第120章 51区的脑补闭环了(1w)(4 / 7)

(1972年的HP-35)

其中发光二极管决定了全球目前只有华国能把体积做小。

王守武和王守觉两兄弟想到了这段时间的艰辛,大家别说九九六,完全就是二十四小时连轴转的状态,除了必须吃饭睡觉这种生活需求外就是工作。

1957年开发华国首款锗合金晶体管就是他们两兄弟一起合作。

这次也不例外。

他们是这款名为XM-01型号便携式计算机的主要研发方。

XM-01,也就是熊猫01,之所以叫熊猫不叫红旗,一方面是因为熊猫好歹算个品牌,另外一方面是因为他们这回有野望,希望能够卖到自由阵营,赚美元回来。

一般的方法肯定卖不过去,但在燕京负责对外贸易同志的想办法下,他们找到了一条路,走芬兰做转口贸易。

关于如何走芬兰过一遍先按下不表,接着回到51区。

对王守觉和王守武两兄弟来说,目标是制造一块包含多个晶体管、电阻和电容的单片集成电路。

其中包括了硅材料提纯、平面工艺、光刻、刻蚀和互连等技术。

而且此时的华国缺乏精密半导体制造设备,光刻机和晶圆切割机都很缺乏。

最开始大家只能使用锯子手工切割硅片,并通过人工抛光达到所需平整度。

光刻工艺需要高精度掩模和曝光系统更是只能依靠自制设备。

“守觉,这块硅片的表面粗糙,刻蚀不均匀。我们的光刻设备精度不够。”

“是的,我们只能靠手工调整掩模和曝光时间。必须再试几次。”

大家都深知设备限制,不得不自力更生。

最开始团队只能自制光刻掩模,通过反复试验优化曝光和显影工艺。

设计最简单的光学系统,利用现有显微镜改装,勉强实现微米级图案化。

这样搞,无论是良率还是稳定性都特别差。

好在东德的合作很快到来,就像一阵春风,东德在光学仪器上,帮助他们快速解决了原本无法解决的关卡。

一个接一个的克服,能做到微米级的步进式光刻机打造出来后,芯片印刷上的难题都迎刃而解。

按照原历史,华国本来也在1965年,由华国科学院微电子研究所和申海光学仪器厂一起合作,研发出了华国第一台65型接触式光刻机。

《1956-1967年科学技术发展远景规划纲要》里关于半导体技术制定的计划,几乎都实现了。

只是现在,因为有了更具体的目标。

65式这种只是基于研发的机器是肯定无法满足。

华国和东德合作,造出来要更符合实际生产需要,已经和原本1985年才搞出来的分步光刻机相差不大了。

剩下的就是高纯度的硅,国内硅片常含杂质。

进口高纯硅受限。

从区域精炼工艺到炉子改造,再到温度精准监控。

这些都无法依赖东德,只能靠自己。

树莓派在这个过程中起到了巨大作用。

改进后的区域精炼设备,如果只考虑温度控制系统,这套基于树莓派计算打造的温度控制系统,比德州仪器的还要更先进。

不过越是研发,华国科研人员内心的紧迫感就更甚。

毕竟整个51区知道树莓派存在的人里,从上到下,没有一个会觉得树莓派只有华国有。

大家都很清楚,阿美莉卡也有,而且只会更多。

在这样的想法下,他们都以为自己只是接近阿美莉卡最先进水平。

压根想不到,他们基于便携式计算机打造的整套技术,有不少都站在了世界先进水平。

光刻、刻蚀和互连工艺是集成电路制造的核心,过去华国缺乏相关经验。

光刻掩模对准困难,刻蚀深度难以控制,金属互连常出现断路或短路。

DTL电路逻辑功能验证了,但良率太低,互连问题始终无法解决。

金属沉积的均匀性不够。

图案的精度不够。

他们几乎是在和时间赛跑。

最终,终于在去年年底的时候,成功在一平方厘米的硅片上制造出包含七个晶体管、一个二极管、七个电阻和六个电容的集成电路,采用二极管-晶体管逻辑设计。

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